溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是制备溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。目前溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。
纯度: 4N,5N
纯度: 3N,3N5,4N
纯度: 4N
纯度: 2N,3N
纯度: 3N, 3N5, 4N
纯度: 3N5
纯度: 3N5, 4N
纯度: 3N, 3N5, 4N, 4N5, 5N
纯度: 2N5, 4N, 4N5, 5N
纯度: 2N5,3N,3N5
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纯度: 3N,3N5
纯度: 5N
纯度: 3N, 3N6, 4N