2025-06-07 10:20:46 17人浏览
铝锆合金靶材是一种由铝和锆为主要成分，通过合金化处理制得的靶材，具有耐腐蚀，热稳定，导电性等性能。主要用于物理气相沉积（PVD）等薄膜制备工艺中，作为溅射或蒸发源。
2025-05-30 15:11:53 24人浏览
铜镍钛合金靶材是一种由铜、镍和钛三种金属组成的合金靶材，结合了铜的高导电性、镍的耐腐蚀性以及钛的高强度特性，通过熔炼法制备，广泛应用于光学、电子、装饰、耐磨涂层等领域。
2025-05-23 16:25:55 35人浏览
铜铬锆合金靶材是一种由铜、铬和锆组成的合金靶材，具有高强度、高硬度、良好的导电性和导热性等特点。通过熔炼法制备，广泛应用于电子、机械、化工等多个领域。
2025-05-16 15:47:24 52人浏览
铜铬合金靶材主要由铜和铬组成，合金化平衡了铜的优异导电性和铬的高硬度。通过熔炼法制备，适用于多种功能性镀层。
2025-05-09 16:56:23 53人浏览
铜钛合金靶材是一种由铜和钛两种金属元素组成的合金靶材，具有纯度高，耐腐蚀，抗氧化等特性。通常采用熔炼法制备，广泛应用于半导体、光学镀膜、装饰涂层、耐磨涂层等领域。
2025-04-30 09:33:17 61人浏览
高纯金属靶材是指纯度为99.9%~99.9999%（3N~6N）的金属靶材。靶材是物理气相沉积（PVD）工艺中用于制备薄膜的关键材料，通过离子束流轰击 靶材表面，使靶材原子沉积在基底上形成薄膜。
2025-04-25 15:53:43 83人浏览
铜铝合金靶材是一种高纯铜和铝作为原材料的合金靶材，具有良好的导电性，导热性和耐腐蚀性。通常通过熔炼法制备，广泛用于电子薄膜，光学涂层和耐磨涂层等领域。
2025-04-19 10:27:46 92人浏览
铜锌合金靶材是一种由铜（Cu）和锌（Zn）组成的合金溅射靶材，具有良好的导电性，耐腐蚀性以及机械性能优良。通常采用真空熔炼法制备，广泛应用于薄膜制备、电子工业、装饰镀层等领域。
2025-04-11 10:50:20 66人浏览
钴镍铁合金靶材主要由钴、镍、铁三种金属元素组成，沉积的膜层具有良好的软磁性能，通常采用熔融铸造法。广泛应用于半导体、显示技术、光伏、磁存储等领域。
