2025-10-31 16:58:22 15人浏览
镍锰合金靶材（常见的是镍锰比例为50:50 at.%，即NiMn合金）是制备磁性多层膜、自旋电子学器件等功能薄膜的关键原材料。其制备过程要求高纯度、高致密度、成分均匀且结构完整。
2025-10-25 15:06:49 25人浏览
镍铌合金靶材是以镍和铌为主要元素，按一定比例熔炼制成的溅射靶材，其高温性能稳定，优异的耐腐蚀性和抗氧化性，广泛用于物理气相沉积（PVD）工艺，特别是磁控溅射，以在各类基板上制备功能薄膜。
2025-10-14 16:40:28 44人浏览
铜铝锌锡合金靶材是一类多元合金溅射靶材，结合了铜（Cu）、铝（Al）、锌（Zn）、锡（Sn）等金属的优异性能，广泛应用于半导体、薄膜太阳能电池、电子器件和光学涂层等领域。
2025-09-29 16:48:40 62人浏览
铜酸镧靶材是由高纯度的氧化镧和氧化铜通过粉末冶金等特殊工艺制成的固态坯料。具有纯度高，导电性好，致密度高等特性，广泛用于光学信息存储、玻璃涂层（如汽车玻璃、建筑玻璃）、光通信等行业。
2025-09-19 16:14:05 75人浏览
铜锰镍合金靶材是一种以铜为基体、添加镍和锰元素的高纯度合金溅射靶材，具有优异热机械性能、耐腐蚀性、附着性和可加工性。通过熔炼法制备而成，广泛应用于半导体、集成电路、薄膜电阻、平面显示、光学器件和太阳能电池等领域。
2025-09-12 16:38:47 86人浏览
铜硅合金靶材是一种用于物理气相沉积（PVD）工艺的重要溅射靶材，主要由铜（Cu）和硅（Si）两种元素组成。它在微电子、半导体和光伏等领域有着特定的关键应用。
2025-09-05 15:52:14 92人浏览
铝镝合金靶材由金属铝（Al）和稀土元素镝（Dy）通过特定冶金工艺制备而成。具有优良的导电性、延展性和镝独特的磁性能及高温稳定性。主要用于半导体、数据存储和光学镀膜等高科技领域。
2025-08-29 16:02:01 78人浏览
铝钬合金靶材是一种高性能的铝钬稀土金属合金溅射靶材，具有高耐热性、高硬度与耐磨性。采用真空熔炼法制备，以在各类基板上制备具有特殊功能的薄膜材料。
2025-08-23 13:43:39 121人浏览
铝铒合金靶材是以铝为基体，添加一定比例的铒元素。它属于一种高性能、高附加值的特种溅射靶材。起制备方法为真空熔炼-热机械加工法。主要用于半导体和微电子工业中的物理气相沉积（PVD）工艺。
