2025-09-12 16:38:47 5人浏览
铜硅合金靶材是一种用于物理气相沉积（PVD）工艺的重要溅射靶材，主要由铜（Cu）和硅（Si）两种元素组成。它在微电子、半导体和光伏等领域有着特定的关键应用。
2025-09-05 15:52:14 23人浏览
铝镝合金靶材由金属铝（Al）和稀土元素镝（Dy）通过特定冶金工艺制备而成。具有优良的导电性、延展性和镝独特的磁性能及高温稳定性。主要用于半导体、数据存储和光学镀膜等高科技领域。
2025-08-29 16:02:01 21人浏览
铝钬合金靶材是一种高性能的铝钬稀土金属合金溅射靶材，具有高耐热性、高硬度与耐磨性。采用真空熔炼法制备，以在各类基板上制备具有特殊功能的薄膜材料。
2025-08-23 13:43:39 35人浏览
铝铒合金靶材是以铝为基体，添加一定比例的铒元素。它属于一种高性能、高附加值的特种溅射靶材。起制备方法为真空熔炼-热机械加工法。主要用于半导体和微电子工业中的物理气相沉积（PVD）工艺。
2025-08-15 14:09:25 42人浏览
铝钕合金靶材是一种由铝与稀土元素钕为主所组成的高纯合金溅射靶材，具有耐腐蚀性，抗氧化性良好和延长靶材使用寿命。通过熔炼法制备，广泛用于磁控溅射、半导体、光伏太阳能及光学镀膜等领域提供高性能薄膜材料。
2025-08-08 13:43:57 44人浏览
铝钇合金靶材是一种由铝（Al）和钇（Y）两种金属元素组成的合金靶材，通过特定的制备工艺(熔炼法或者粉末冶金法)制成，主要用于在半导体、太阳能电池、光学镀膜等领域沉积功能性薄膜
2025-07-25 14:33:53 63人浏览
铝钛硅合金靶材是一种由铝、钛和硅三种元素组成的多组分合金靶材。具有高硬度，耐热性，抗氧化与耐磨性等特征。通过粉末冶金法得到具有不同性能的合金靶材。广泛应用于半导体、光学镀膜、显示面板及耐磨涂层等领域。
2025-07-19 15:32:44 61人浏览
铝铬硅合金靶材是一种用于物理气相沉积（PVD）的溅射靶材，主要由铝、铬、硅三种元素组成，具有高硬度、耐磨、抗高温氧化等特性，广泛应用于刀具镀膜、模具表面处理等领域。
2025-07-11 11:13:17 76人浏览
铝硅铜合金靶材主要由铝、硅和铜三种元素组成。具有良好的导电性，耐腐蚀性和热稳定性。通过熔炼法制备，广泛应用于半导体、显示技术等领域。
