2025-08-29 16:02:01 9人浏览
铝钬合金靶材是一种高性能的铝钬稀土金属合金溅射靶材，具有高耐热性、高硬度与耐磨性。采用真空熔炼法制备，以在各类基板上制备具有特殊功能的薄膜材料。
2025-08-23 13:43:39 24人浏览
铝铒合金靶材是以铝为基体，添加一定比例的铒元素。它属于一种高性能、高附加值的特种溅射靶材。起制备方法为真空熔炼-热机械加工法。主要用于半导体和微电子工业中的物理气相沉积（PVD）工艺。
2025-08-15 14:09:25 32人浏览
铝钕合金靶材是一种由铝与稀土元素钕为主所组成的高纯合金溅射靶材，具有耐腐蚀性，抗氧化性良好和延长靶材使用寿命。通过熔炼法制备，广泛用于磁控溅射、半导体、光伏太阳能及光学镀膜等领域提供高性能薄膜材料。
2025-08-08 13:43:57 37人浏览
铝钇合金靶材是一种由铝（Al）和钇（Y）两种金属元素组成的合金靶材，通过特定的制备工艺(熔炼法或者粉末冶金法)制成，主要用于在半导体、太阳能电池、光学镀膜等领域沉积功能性薄膜
2025-07-25 14:33:53 54人浏览
铝钛硅合金靶材是一种由铝、钛和硅三种元素组成的多组分合金靶材。具有高硬度，耐热性，抗氧化与耐磨性等特征。通过粉末冶金法得到具有不同性能的合金靶材。广泛应用于半导体、光学镀膜、显示面板及耐磨涂层等领域。
2025-07-19 15:32:44 54人浏览
铝铬硅合金靶材是一种用于物理气相沉积（PVD）的溅射靶材，主要由铝、铬、硅三种元素组成，具有高硬度、耐磨、抗高温氧化等特性，广泛应用于刀具镀膜、模具表面处理等领域。
2025-07-11 11:13:17 64人浏览
铝硅铜合金靶材主要由铝、硅和铜三种元素组成。具有良好的导电性，耐腐蚀性和热稳定性。通过熔炼法制备，广泛应用于半导体、显示技术等领域。
2025-07-05 17:22:51 106人浏览
半导体靶材是芯片制造中薄膜沉积工艺的核心原材料，本质是高纯度金属或合金材料。在溅射沉积（Sputtering）等工艺中，靶材通过离子轰击释放原子或分子，在晶圆表面沉积形成纳米级功能薄膜，如导电层、绝缘层、阻挡层等，直接影响芯片的电学性能、可靠性和良率。
2025-06-27 16:46:19 65人浏览
铝锌合金靶材是一种以铝（Al）和锌（Zn）为主要成分，通过特定工艺制备而成的合金靶材，具有组织成分均匀、抗拉强度和硬度高、耐磨性好等特性。广泛应用于半导体、显示技术、光学涂层及装饰镀膜等领域。
