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硅(Si)靶材 ¥400.00


高纯5N(99.999%)硅靶材,价格以当日报价为准,需联系销售报价!!!


元素 : Si     

形状 : 平面靶材      旋转靶材     

规格 : 片     

包装 : 三层真空包装或充氩气保护,符合IATA、DOT包装规范     

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商品详情


市场参考价格:¥400.00/片左右, 价格仅供参考,如有需要,请咨询报价,以当日报价为准!

高纯硅靶材为深灰色。硅在室温下为固体,熔点为1,414°C(2,577°F),沸点为3,265°C(5,909°F)。像水一样,与大多数其他物质不同,它在液态时的密度比固态时更大,并且在冻结时会膨胀。硅具有149 W•m-1•K-1的较高导热系数,导热性很好。如需更多详情,欢迎电话咨询获得更多优惠!  


硅靶材


高纯硅靶材规格
尺寸:D152.4X6mm, 可按要求定制。

形状:平面靶 旋转靶 异型定制


硅靶材制备工艺流程

备料 - 真空电子束熔炼 - 金刚石线切割 - 退火 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 终检 - 包装


硅靶材成分分析


高纯iI靶材应用

引主要用于反应磁控溅射中,以沉积SiO2和SiN等介电层。作为重要的功能性薄膜材料,它们具有良好的硬度,光学,介电性能和耐磨性。硅靶材的耐腐蚀性在光学和微电子领域具有广阔的应用前景,并且目前在世界范围内被广泛用作功能材料。目前,它主要用于LCD透明导电玻璃,建筑LOW-E玻璃和微电子行业。硅溅射靶可分为两种:单晶和多晶。我们通过直拉晶体生长方法生产平面硅溅射靶。