高纯3N5（99.95%）钽靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： Cr
纯度 ： 3N 3N5
形状 ： 平面靶材
规格 ： 1Kg
包装 ： 三层真空包装或充氩气保护，符合IATA、DOT包装规范
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥2000.00/Kg左右，价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
高纯铬靶材是一种银白色有光泽的金属靶材，其熔点为1857°C，密度为7.2g/cm 3 。高纯铬靶材经磁控溅射为基体镀膜具有、抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电等特点，可用于半导体、芯片、电子产品、显示屏以及光学材料镀膜。 如需更多详情，欢迎电话咨询获得更多优惠!
高纯铬靶材规格
尺寸：
直径100*40mm，可按要求定制。
形状：平面靶 异型定制
铬靶材的制作方法
采用热压烧结工艺，在预设温度为1100～1300℃，预设压强大于30MPa的条件下，对铬粉末进行致密化处理，形成铬靶材坯料；之后冷却所述铬靶材坯料，形成铬靶材。采用上述技术方案，可形成致密度高达99.5%，平均晶粒度小于50μm，且结构均匀的铬靶材。
高纯铬靶材应用
铬溅射靶材用于许多真空应用，例如汽车玻璃涂层、光伏电池制造、电池制造、燃料电池以及装饰和耐腐蚀涂层。铬溅射靶材与其他光信息存储空间工业一样，用于CD-ROM、薄膜沉积装饰、平板显示器、功能涂层等。
