高纯金属靶材是指纯度为99.9%~99.9999%(3N~6N)的金属靶材。靶材是物理气相沉积(PVD)工艺中用于制备薄膜的关键材料,通过离子束流轰击 靶材表面,使靶材原子沉积在基底上形成薄膜。
2025-04-30
铜铝合金靶材是一种高纯铜和铝作为原材料的合金靶材,具有良好的导电性,导热性和耐腐蚀性。通常通过熔炼法制备,广泛用于电子薄膜,光学涂层和耐磨涂层等领域。
2025-04-25
铜锌合金靶材是一种由铜(Cu)和锌(Zn)组成的合金溅射靶材,具有良好的导电性,耐腐蚀性以及机械性能优良。通常采用真空熔炼法制备,广泛应用于薄膜制备、电子工业、装饰镀层等领域。
2025-04-19
钴镍铁合金靶材主要由钴、镍、铁三种金属元素组成,沉积的膜层具有良好的软磁性能,通常采用熔融铸造法。广泛应用于半导体、显示技术、光伏、磁存储等领域。
2025-04-11