铜锌合金靶材是一种由铜(Cu)和锌(Zn)组成的合金溅射靶材,具有良好的导电性,耐腐蚀性以及机械性能优良。通常采用真空熔炼法制备,广泛应用于薄膜制备、电子工业、装饰镀层等领域。
2025-04-19
钴镍铁合金靶材主要由钴、镍、铁三种金属元素组成,沉积的膜层具有良好的软磁性能,通常采用熔融铸造法。广泛应用于半导体、显示技术、光伏、磁存储等领域。
2025-04-11
钴铌锆合金靶材是一种由钴(Co)、铌(Nb)和锆(Zr)三种金属元素组成的合金靶材,具有良好的高温强度、抗氧化和抗热腐蚀性能。通常采用真空熔炼法制备,广泛用于用于半导体、光学涂层、耐磨涂层和功能性薄膜制备等领域。
2025-04-02
钴硅合金靶材是由钴和硅按特定比例组成的溅射靶材,具有良好的导电性、导热性和耐腐蚀性。常见的制备方法有熔炼法和粉末冶金法。广泛用于电子工业,光学薄膜、耐磨涂层等领域。
2025-03-28