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金属溅射靶材

发布时间:2021-11-06 作者:长沙鑫康科研材料服务平台 阅读量:341



溅射靶材主要由靶坯、背板等部分构成,其中,靶坯是高速离子束流轰击的目标材料,属于溅射靶材的核心部分,在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜;由于高纯度金属强度较低,而溅射靶材需要安装在用的机台内完成溅射过程,机台内部为高电压、高真空环境,因此,超高纯金属的溅射靶坯需要与背板通过不同的焊接工艺进行接合,背板起到主要起到固定溅射靶材的作用,且需要具备良好的导电、导热性能。


高纯金属溅射靶材


金属溅射靶材市场应用
当今常用的许多产品都有通过溅射靶材形成的涂层。这些涂层包括:

半导体
大多数现代电子产品都包含使用钽溅射靶材生产的基本组件。其中包括微芯片、存储芯片、打印头、平板显示器等。

玻璃镀膜
溅射靶材用于生产低辐射镀膜玻璃(也称为 Low-E 玻璃),因其节能、控制光线和美观的能力而常用于建筑施工。

太阳能电池涂层
对可再生能源的需求正在上升。第三代薄膜太阳能电池采用溅射镀膜技术制备。




鑫康提供的金属溅射靶材


品名 纯度 品名 纯度
银(Ag) 3N5-5N 铝(Al) 4N-6N
金(Au) 4N-5N 砷(As) 2N-4N
硼(B)) 2N-6N 铍(Be) 2N-3N
铋(Bi) 4N-5N 石墨/碳(C) 3N-5N
钙(Ca) 3N 镉(Cd) 4N-5N
铈(Ce) 3N-4N 钴(Co) 3N-4N
铬(Cr) 2N5-3N5 铜(Cu) 3N5-6N
镝(Dy) 3N-4N 铒(Er) 3N-4N
铕(Eu) 3N-4N 铁(Fe) 3N-4N
镓(Ga) 5N-7N 钆(Gd) 3N-4N
锗(Ge) 5N 铪(Hf) 3N-4N
钬(Ho) 2N5-3N 铟(In) 4N-5N
铱(Ir) 3N5 镧(La) 3N-4N
锂(Li) 3N 镥(Lu) 3N-4N
镁(Mg) 3N5-4N 锰(Mn) 3N-4N
钼(Mo) 3N5-4N 铌(Nb) 3N5-4N5
钕(Nd) 2N5-3N5 镍(Ni) 2N5-5N
锇(Os) 3N5 铅(Pb) 4N
钯(Pd) 3N5 镨(Pr) 2N5-3N
铂(Pt) 3N5-4N 铼(Re) 3N5
铑(Rh) 3N5 钌(Ru) 3N5
锑(Sb) 3N5-5N 钪(Sc) 3N5
硒(Se) 3N-5N 硅(Si) 5N-7N
钐(Sm) 3N5 锡(Sn) 3N5-5N
锶(Sr) 3N 钽(Ta) 3N5-4N
铽(Tb) 3N5 碲(Te) 4N-6N
钛(Ti) 2N5-5N 铥(Tm) 2N5-3N5
钒(V) 3N5-4N 钨(W) 3N5-5N
钇(Y) 3N5 镱(Yb) 3N5
锌(Zn) 3N5-5N 锆(Zr) 2N5-3N5


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