钨钛合金靶材新型半导体芯片薄膜材料
发布时间:2022-04-12 作者:材料类科研服务平台 阅读量:570
新型半导体芯片选择钨钛合金靶材作为扩散阻挡层和键合层的主要原因是该合金具有良好的表面附着力和优异的散热性能,因此,制备的产品将具有更高的综合性能。
钨钛合金的制备方法
1、取一定量的钨粉和钛粉,在惰性气氛保护下混合均匀。
2、使用机械压力机或冷等静压机将所得混合材料压制成坯料。
3、将生产出来的毛坯放入真空烧结炉中进行致密化和烧结。
4、将步骤3中烧结的钨钛材料冷却后,在非自耗真空电弧炉中熔炼得到产品。
以上是钨钛合金靶材的相关介绍,如果您还有其他合金靶材的问题,可以点击此链接,合金靶材产品系列https://www.xk-materials.cn/goodsList_24_1.html或者微信,电话联系我们咨询
[免责声明]本站文章部分为原创,其余仅做网络公开资料的翻译、归纳和整理,不属于商业用途,仅用于读者信息分享,供读者学习参考,不对文章内容的真实性、合法性、准确性、有效性、完整性等提供保证及负责,且不对读者提供任何投资及应用建议。本站尊重知识产权,因整理资料所需,文中引用部分有来源于第三方公开的数据、图片等内容的,如有版权的则其所属的知识产权归属原作者,本站文章凡有引用的内容均在文末标注了原文出处或者原作者,若版权所有者认为文章涉嫌侵权或其他问题,请联系我方(联系电话:0731-86393472)及时处理。本站提供技术方面的文章不用于商业仅供大家学习参考,力求数据严谨准确,但因受时间及人力限制,文章内容难免有所纰漏,如有重大失误失实,敬请不吝赐教批评指正。本站原创文章版权归本网站所有,转载请联系本站,本站拥有对此声明的终解释权。