国内高纯金属靶材企业
发布时间：2025-04-30 作者：长沙鑫康新材料 阅读量：3
高纯金属靶材是指纯度为99.9%~99.9999%（3N~6N）的金属靶材。靶材是物理气相沉积（PVD）工艺中用于制备薄膜的关键材料，通过离子束流轰击靶材表面，使靶材原子沉积在基底上形成薄膜。长沙鑫康新材料有限公司成立于2014年，一直以来都致力于开发以高纯材料为核心的高端镀膜材料。目前业务范围主要包括单质金属溅射靶材、合金溅射靶材、陶瓷溅射靶材、化合物溅射靶材、蒸发镀膜材料等等，所服务的行业主要包括：半导体、集成电路、微电子、平板显示、航空航天、节能玻璃、功能装饰和绿色新能源等。
高纯金属靶材核心特性
高纯度：杂质含量极低（如5N～6N级），避免影响薄膜的电学或光学性能。
高密度：减少溅射过程中的颗粒飞溅，提高薄膜均匀性。
晶粒尺寸：细小且均匀的晶粒可提升溅射速率和薄膜质量。
机械强度：需承受高温和离子轰击，避免开裂。
高纯金属靶材常见种类及应用
高纯铝（Al）- 5N～6N，常用于半导体电极、反射镜镀膜；
高纯铜（Cu）- 5N～6N，常用于集成电路互连线、TSV封装；
高纯钛（Ti）- 4N～5N，常用于光伏电池、耐磨涂层；
高纯钼（Mo）- 4N～5N，常用于显示面板（TFT-LCD）、薄膜太阳能电池；
高纯钽（Ta）- 4N～5N，常用于电容介质层、扩散阻挡层；
高纯金（Au）/银（Ag）- 4N～5N，常用于高端电子器件、红外光学镀膜。
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