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铁钴镍铬(CoCrFeNi)合金靶材 ¥500.00


高纯3N(99.9%) 铝铜合金靶材,价格以当日报价为准,需联系销售报价!!!


元素 : FeCoNiCr     

纯度 : 3N     

形状 : 平面靶材     

包装 : 真空包装、纸箱、木箱     

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商品详情

市场参考价格:¥500.00/Kg左右,价格仅供参考,如有需要,请咨询报价,以当日报价为准!

产品名称:铁钴镍铬(CoCrFeNi)合金靶材

纯度:3N

尺寸: D50.8x3mm 或者 按图纸定制


铁钴镍铬合金靶材


铁钴镍铬合金靶材是一种以铁(Fe)、钴(Co)、镍(Ni)、铬(Cr)为主要成分的经典等原子比高熵合金溅射靶材,主流原子配比 Fe:Co:Ni:Cr=1:1:1:1。它通常通过真空熔炼、锻造、轧制及精密加工等多道工序制备而成,依靠磁控溅射、射频溅射制备高性能功能薄膜,是半导体、耐磨防护、磁学镀膜主流靶材。


铁钴镍铬合金靶材核心特点与性能优势
优异的力学性能:具备极高的强度和硬度,同时保持良好的塑性和韧性。即使在低温环境下,其强度反而会显著提升,且具有出色的抗疲劳和耐磨损性能。
卓越的耐腐蚀与抗氧化性:Cr元素的加入能在材料表面形成致密的氧化膜,同时四种元素的协同作用使其在酸碱环境、海水及高温环境下的抗腐蚀能力远优于传统不锈钢。
出色的热稳定性:具有较高的熔点(约1400-1500℃),在高温真空或惰性气体环境中结构稳定,不易变形,适合长时间、高功率的溅射工艺。
可调的磁性能:通过调整合金中Co和Ni的比例,可以灵活地调控薄膜的软磁或硬磁性能,满足不同应用需求。
成分与微观结构均匀:采用高纯度金属原料和先进的熔炼或粉末冶金技术制造,确保靶材内部成分分布均匀、晶粒细小、致密度高。


铁钴镍铬溅射靶材

铁钴镍铬合金靶材的制备方法

原料准备:选用钴(Co)、铬(Cr)、铁(Fe)、镍(Ni)四种金属,纯度要求≥99.95%。按目标合金成分比例称量原料,例如原子比 Co:Cr:Fe:Ni=1:1:1:1或其他定制比例.
熔炼与合金化:采用真空熔炼炉,在真空度≤1×10?3 Pa或惰性气体(如氩气)保护下进行熔炼。升温至1300–1600℃,通过感应加热或电弧加热使原料完全熔融,持续搅拌2–4小时以确保成分均匀,避免偏析。
铸造成型:将熔融合金浇注到预热至200–300℃的石墨模具中,采用水冷或空冷加速冷却,控制冷却速率在10–50℃/s,以抑制粗大晶粒生成,获得均匀铸锭.
热变形与热处理:铸锭在800–1200℃下进行多次热锻,破碎铸造组织,细化晶粒,提升致密度和塑性;部分工艺结合热轧进一步优化材料性能。热锻后进行退火(600–900℃,保温1–3小时),消除残余应力并稳定微观结构.
机械加工:通过车削、铣削、切割和打磨等工艺,将靶材加工至指定尺寸和形状精度,满足平面靶或异型定制需求.


铁钴镍铬合金靶材的应用领域

电子工业:用于制备半导体器件中的导电层、阻挡层和电极材料。
光学领域:用于光学镀膜,制备具有特殊光学性能的薄膜,应用于激光器、光学镜片和滤光片等。
磁学领域:用于制造硬盘驱动器中的磁记录薄膜、数据存储、磁传感器和磁记录介质等。
能源领域:用于燃料电池、太阳能电池等能源器件的薄膜制备。


铁钴镍铬(FeCoNiCr)合金靶材代表了新一代高性能溅射靶材的发展方向,它通过高熵合金的设计理念,实现了力学、化学、热学和磁学性能的完美平衡,使其成为支撑半导体、航空航天、新能源等尖端科技领域发展的关键材料。