高纯3N5（99.95%）镍锰铝硅靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： NiMnAlSi
纯度 ： 3N5
形状 ： 板
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格： ¥1350/件。价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
名称： 镍锰铝硅 （NiMnAlSi）合金靶材
纯度：99.95%
规格： 381x127x3mm 或者定制
镍锰铝硅合金靶材是一种由镍（Ni）、锰（Mn）、铝（Al）、硅（Si） 四种主要元素按特定比例熔炼、加工而成的圆形或矩形的靶材。通常镍的含量相对较高，铝含量在 10%-20% 左右，硅含量在 3%-8%，锰含量在 2%-5%。有靶材产品的成分为 NiMnAlSi 95-2-2-1（wt%），纯度达 99.95%。
镍锰铝硅合金靶材主要特征
高致密度：采用热等静压（HIP）或热压烧结，相对密度 ≥99%，保证溅射过程低颗粒、高成膜均匀性。
成分均匀：多组元易偏析，需通过双联熔炼（VIM+VAR）或惰性气体雾化制粉+HIP 工艺，控制宏观偏析 ≤±0.5 wt%。
低氧含量：芯片级要求 O ≤ 100 ppm，避免氧化夹杂导致薄膜电阻漂移。
镍锰铝硅合金靶材制备方法
粉末冶金法：选取高纯度的镍粉、锰粉、铝粉和硅粉，根据靶材设计成分精确称量，混合后装入模具，通过冷等静压施加高压，将粉末压制成 “生坯”，再将生坯放入真空烧结炉或惰性气体保护炉中，在高温下保温数小时，后对烧结后的坯体进行机械加工，制成符合尺寸要求的靶材。
熔炼法：将镍、锰、铝、硅等原料按一定比例放入熔炉中熔融，然后浇铸成型，再经过热轧、冷轧等加工工艺，制成靶材。这种方法制备的靶材密度较高，成分均匀性较好。
镍锰铝硅合金靶材应用领域
半导体与电子器件：用于制备半导体薄膜、电极或绝缘层，尤其在存储器、电容器等器件中发挥作用；可作为磁控溅射靶材，沉积高均匀性的功能性薄膜。
表面防护涂层：通过PVD工艺生成耐磨、耐腐蚀的涂层，应用于航空航天部件或工业刀具。
新能源领域：潜在用于太阳能电池电极或锂离子电池的导电层，利用其高导电性和热稳定性。
