高纯3N（99.9%）镍硅靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： NiB
纯度 ： 3N
形状 ： 平面靶材
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格： ¥2500/件。价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
名称：镍硼（NiB）合金靶材
纯度：99.9%
规格： D76.2X6mm 或者定制
镍硼合金靶材是以镍（Ni）和硼（B）为主要成分，经高纯致密化工艺制成的溅射镀膜用材料，通常用于半导体、光学薄膜、太阳能电池等领域，通过磁控溅射等物理气相沉积（PVD）技术，在基片表面沉积镍-硼功能薄膜。
镍硼合金靶材主要特征
具有高密度、耐高温特性，适合高温溅射环境。
耐腐蚀性较强，尤其在氧化环境中表现优异，可通过添加贵金属元素进一步提升耐蚀性。
可加工成平面靶、旋转靶等形态，尺寸灵活定制，满足不同设备需求。
镍硼合金靶材制备方法
通常采用真空感应熔炼法制备。将高纯硼粉与镍粉混合均匀，压制成镍硼电极，再与电解镍片一同放入真空感应熔炼炉的坩埚中，经抽真空、加热精炼后，充入氩气保护，后将合金熔体浇铸到模具中冷却成型，得到镍硼合金靶材。
镍硼合金靶材应用领域
半导体与电子：用于芯片互连层、电磁屏蔽层等，提升导电性和热稳定性。
新能源技术：在钙钛矿电池中作为空穴传输层，优化光电转换效率；锂离子电池中用作集流体功能层，降低界面阻抗。
光学与显示：制备OLED透明导电膜（TCO）及抗反射涂层，增强透光率和耐用性。
工业防护涂层：提供耐磨、抗氧化的表面保护，延长器件寿命。
