高纯3N（99.9%）镍锰靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： NiMn
纯度 ： 3N
形状 ： 平面靶材
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
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镍锰合金靶材（常见的是镍锰比例为50:50 at%，即NiMn合金）是制备磁性多层膜、自旋电子学器件等功能薄膜的关键原材料。目前工业上主流的制备方法是粉末冶金法，通过 “粉末制备 - 成型 - 烧结 - 后续加工”四个关键步骤，将金属粉末转化为高密度、低杂质的靶材。
镍锰合金靶材主要特征
良好的导电性和导热性：镍和锰的组合赋予了靶材较高的热导率，使其在溅射过程中能有效散热，保证溅射过程的稳定性。
优异的磁性能：具有优良的磁性，适用于磁性存储媒体、磁性传感器等磁性相关的薄膜应用。
高纯度和均匀性：通过先进的制备工艺，可使靶材具有高纯度、成分均匀、组织致密等特点，确保在薄膜沉积过程中能提供稳定的元素供应，从而获得性能一致的薄膜。
镍锰合金靶材制备方法
原料准备：选取高纯度（通常≥99.9%）的镍粉和锰粉，根据靶材设计成分（如 Ni-Mn 1:1、Ni-Mn 3:1 等）精确称量。
成型工艺：将混合好的粉末装入模具，通过冷等静压（CIP）施加高压（通常 100-300MPa），将粉末压制成具有一定强度和密度的 “生坯”（密度约为理论密度的 60%-80%）。
烧结工艺：将生坯放入真空烧结炉或惰性气体保护炉（如氩气），在高温（800-1100℃）下保温数小时。
加工：对烧结后的坯体进行机械加工，包括切割、磨削、抛光等，将其加工成符合尺寸要求的靶材。
镍锰合金靶材应用领域
微型制动器：利用其磁致伸缩或形状记忆效应，制造微泵、微阀门、微镜等，通过控制磁场或温度来实现微米/纳米级别的精确运动。
数据存储：镍锰合金可以作为反铁磁钉扎层的关键材料，用于固定相邻铁磁层的磁化方向，这是制造高密度、非易失性MRAM芯片的核心技术之一。
功能性与防护性涂层：由于其高硬度和耐磨性，可用于切削工具、精密零部件表面的涂层，提高其使用寿命。
