高纯3N（99.9%）镍铌靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： NiNb
纯度 ： 3N
形状 ： 平面靶材
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
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镍铌合金靶材是以镍（Ni）和铌（Nb）为主要元素，按一定比例熔炼制成的溅射靶材，主要用于物理气相沉积（PVD）工艺，特别是磁控溅射，以在各类基板上制备功能薄膜。
镍铌合金靶材主要特点与优势
物理性能：镍铌合金靶材具有较高的熔点，这使得它在高温溅射过程中能够保持稳定的形态，不易变形或熔化。同时，其密度适中，热膨胀系数较低，有助于在溅射过程中保持靶材的尺寸稳定性，提高镀膜的均匀性。
化学性能：铌的加入提高了合金的耐腐蚀性和抗氧化性。镍铌合金靶材在常温下具有较好的化学稳定性，表面不易被氧化，在一些腐蚀性环境中也能保持较好的性能，适用于需要在恶劣环境下工作的薄膜制备。
机械性能：该合金靶材具有一定的硬度和强度，能够承受溅射过程中的离子轰击而不易损坏。其良好的机械性能还使得靶材在加工和使用过程中具有较好的耐受性，不易出现裂纹或破碎等问题。
镍铌合金靶材制备方法
熔炼： 将高纯度的镍和铌金属在真空或惰性气体保护下进行熔炼（如真空感应熔炼、电弧熔炼），确保成分均匀并减少杂质。
成型： 通过锻造、热轧或冷轧等工艺将铸锭加工成接近靶材终形状的坯料。
热处理： 进行均匀化退火，以消除内应力、细化晶粒，提高材料的致密度和性能一致性。
机械加工： 使用精密机床将坯料加工成客户要求的终尺寸和形状，并保证表面光洁度和公差。
镍铌合金靶材应用领域
半导体领域：可用于溅射制备阻挡层、电极和互连材料等。镍铌合金薄膜能够有效地阻止金属原子的扩散，提高半导体器件的性能和可靠性，在集成电路制造中具有重要应用。
显示技术领域：在 OLED、液晶显示器等平面显示行业，镍铌合金靶材可用于制备电极或反射层材料，有助于提高屏幕的亮度、响应速度和色彩稳定性。
光学镀膜领域：可用于制备各种光学涂层，如红外反射膜、抗激光损伤膜层等，应用于精密光学器件、激光系统和光学仪器等领域，以满足不同的光学性能要求。
耐磨与耐蚀涂层领域：由于其良好的耐磨和耐蚀性能，镍铌合金靶材可用于在机械零件、工具表面等制备耐磨和耐蚀薄膜，提高零件的使用寿命和性能，在航空航天、汽车制造、机械加工等行业有广泛的应用前景。
