高纯3N（99.9%） 铝钬合金靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： AlHo
纯度 ： 3N
形状 ： 平面靶材
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
铝钬合金靶材是一种高性能的铝钬稀土金属合金溅射靶材，主要用于磁控溅射、脉冲激光沉积等物理气相沉积（PVD）工艺，以在各类基板上制备具有特殊功能的薄膜材料。
铝钬合金靶材性能特点
高耐热性： 钬的加入能显著提高铝基体的再结晶温度和热稳定性。钬与铝形成稳定的金属间化合物（如AlHo?），这些化合物能有效钉扎晶界，抑制高温下晶粒长大，使薄膜在高温环境下仍能保持优异的性能。
优异的阻隔性能： 铝钬合金薄膜具有非常致密、细小的晶粒结构，能有效阻挡水分、氧气、氢等气体的渗透，以及铜、硅等元素的相互扩散。
良好的电学性能： 相比于纯铝，铝钬合金薄膜具有更高的电阻率，但其导电性仍远优于高电阻率的阻挡层材料（如氮化钽TaN），在需要一定导电性的应用中是一个优势。
高硬度与耐磨性： 金属间化合物的存在使薄膜的机械性能得到增强，硬度更高，更耐磨。
铝钬合金靶材制备方法
真空电弧熔炼：在惰性气氛或真空下熔炼高纯铝与钬，避免氧化夹杂。
热机械处理：通过热轧、退火等工艺消除内应力，提升靶材的均匀性和机械强度。
精密加工：可制成平面靶（圆盘、方形）或旋转管靶，尺寸与形状按需定制（如直径100-300mm，厚度3-6mm）。
铝钬合金靶材主要应用领域
半导体与微电子领域：作为阻挡层（Barrier Layer） 或籽晶层（Seed Layer） 材料。
光学镀膜领域：用于沉积特殊的光学涂层，例如激光晶体镀膜（特别是钬激光器相关）、红外光学元件和高级装饰镀膜。
表面工程与防腐涂层：在精密部件上沉积一层薄而致密的铝钬合金薄膜，可以显著提高其在高湿、高盐或高温环境下的耐腐蚀性能和使用寿命。
