高纯4N（99.99%） 铝钕合金靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： AlNd
纯度 ： 4N
形状 ： 平面靶材
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥1750.00/Pc左右，价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
产品名称： 铝钕 （AlNd3wt%）合金靶材
纯度：4N
尺寸： 1080x300x8mm 或者 按图纸定制
铝钕合金靶材（Al-Nd靶材）是一种由铝（Al）与稀土元素钕（Nd）为主所组成的高纯合金溅射靶材，广泛用于磁控溅射、电子束蒸发等物理/化学气相沉积（PVD/CVD）工艺，为TFT-LCD、OLED、触摸屏、半导体、光伏太阳能及光学镀膜等领域提供高性能薄膜材料。
铝钕合金靶材性能特点
低电阻率：钕可细化晶粒并抑制Al晶格缺陷，使沉积薄膜保持与纯Al接近的低电阻，满足高速信号传输需求。
高耐热/抗突起：Nd≥0.9 at% 即可显著提高再结晶温度，350 ℃以上热处理仍不起丘、不起泡，保证后续图形化良率。
优异耐腐蚀：Nd 在表面形成致密氧化膜，显著提升抗斑点腐蚀性能，延长显示屏及器件寿命。
高密度、细小晶粒：采用真空熔炼（VIM）＋热等静压（HIP）工艺，相对密度>97 %，平均晶粒<40 μm，保证溅射过程稳定，膜厚均匀。
轻质高强：密度仅为钢的1/3，比强度却远高于传统铝合金，可应用于航空航天等对减重有严苛要求的场景。
铝钕合金靶材制备方法
真空熔炼法：将铝、钕及其他添加剂按比例混合后，在高温下进行真空熔炼，确保成分均匀性和高纯度24。此方法可减少氧化污染，提升靶材质量。
粉末冶金法：通过气雾化制成合金粉末，再经筛分、热压或热等静压成型，有效避免成分偏析，适合复杂合金体系5。
铝钕合金靶材应用
磁性薄膜领域：可用于生产磁性记录媒体，如硬盘等数据存储设备，钕成分可增强薄膜的磁性能，对于高密度数据存储至关重要。此外，还可用于制造磁性传感器，应用于汽车传感器、工业监测和消费电子等领域。
光学领域：铝钕合金靶材制备的薄膜可用于光学系统，作为反射涂层或抗反射涂层，能够通过调整合金的光学性质来增强反射率或创建专门的光学滤波器，提高光学器件的性能。
电子和半导体领域：可用于沉积薄膜，制造高性能薄膜晶体管等电子器件，也可作为导电层应用于需要增强导电性和稳定性的各种电子应用中。
