高纯3N（99.9%） 铝钛硅合金靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： AlTiSi
纯度 ： 3N
形状 ： 平面靶材
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥350.00/Pc左右，价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
产品名称： 铝铬硅 （ AlCrSi 60/30/10at% ）合金靶材
纯度：3N
尺寸： D50.8x3mm 或者 按图纸定制
铝钛硅合金靶材是一种由铝（Al）、钛（Ti）和硅（Si）三种元素组成的多组分合金靶材。通过不同的配比，可以得到具有不同性能的合金靶材。广泛应用于半导体、光学镀膜、显示面板及耐磨涂层等领域。
铝钛硅合金靶材性能特点
高熔点：铝钛硅合金靶材具有较高的熔点，能在高温环境下保持稳定的物理形态，满足一些高温工艺的需求。
良好的导热性：可以有效传导热量，避免在使用过程中因局部过热而损坏靶材或影响镀膜质量。
适中的密度：密度相对适中，既保证了靶材的强度，又便于加工和安装。
化学稳定性好：在常温下不易与空气中的氧气、水分等发生化学反应，具有较好的抗腐蚀性能，能够长时间储存和使用。
抗氧化性强：在高温环境下，表面能形成一层致密的氧化膜，阻止进一步的氧化，提高了靶材的使用寿
高硬度：具有较高的硬度，使其在镀膜过程中能够承受粒子的轰击，不易出现变形、磨损等问题，保证镀膜的均匀性和稳定性。
良好的耐磨性：耐磨性能优异，可用于制备耐磨涂层，提高被涂覆材料的耐磨性能，延长其使用寿命。
铝钛硅合金靶材制备方法
常见的有粉末冶金法，将铝、钛、硅的粉末按一定比例混合，经过压制、烧结等工艺制成靶材。还有熔炼法，将纯度较高的铝、钛、硅金属原料在高温下熔炼，然后浇铸成型。
铝钛硅合金靶材应用
半导体：用于集成电路的金属化层或阻挡层（如Cu互连的扩散阻挡层）。
光学镀膜：制备高反射率或抗反射涂层，如红外光学器件。
显示技术：OLED或LCD中的电极薄膜（如透明导电氧化物底层）。
工具涂层：切削工具、模具表面的耐磨涂层（Ti-Si增强耐磨性）。
