高纯3N（99.9%） 铜铬锆合金靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： CuCrZr
纯度 ： 3N
形状 ： 平面靶材
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥550/件左右，价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
产品名称： 铜铬锆（CuCrZr） 合金靶材
纯度：3N
规格：D50.8x3mm ，D75x100mm 或者规格生产
铜铬锆合金靶材（Cu-Cr-Zr Target）是一种结合了高导电性、高强度和优异耐热性能的功能性靶材，广泛应用于半导体、薄膜沉积、电子封装和功能涂层等领域。
铜铬锆合金靶材性能优势
高纯度：纯度通常≥99.95%，减少杂质对薄膜性能的影响。
致密结构：通过热等静压（HIP）或热轧工艺制备，密度接近理论值（≥98%）。
优异薄膜质量：溅射后的薄膜具有低电阻率、高附着力和均匀性。
铜铬锆合金靶材制备工艺
粉末冶金法：将高纯度铜、铬、锆粉末按比例混合，高压压制成型后高温烧结，实现致密化。该方法可精确控制成分与微观结构，获得高密度靶。
真空熔炼法：在真空环境中熔炼原料，去除杂质和气体，获得高纯度合金靶材。结合后续热锻、冷轧和热处理，可优化晶粒均匀性（晶粒尺寸≤50μm）和氧含量（≤10ppm）。
铜铬锆合金靶材应用领域
电子工业：半导体器件、集成电路的导电层或阻挡层。
显示技术：液晶显示器（LCD）、OLED的电极薄膜。
光伏产业：太阳能电池的导电涂层。
耐磨涂层：工具、模具表面的硬质防护膜。
