高纯3N（99.9%）钆靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： Gd
纯度 ： 3N
形状 ： 平面靶材
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥680/片左右， 价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
产品名称：石墨（C）靶材
纯度：4N
颜色：黑色
规格：φ60x5mm 或者 按规格定制
钆靶材是以稀土金属钆（Gd）为原料制成的溅射靶材，通常为银灰色，熔点1311℃，密度7.901g/cm³。制备方法有粉末冶金法和熔炼法。主要用于通过磁控溅射或离子束溅射技术沉积钆薄膜或含钆复合薄膜。
钆靶材性能特点
高纯度：钆靶材的纯度通常可达 99.9% 甚至更高，高纯度可以减少杂质对镀膜性能的影响，保证薄膜的质量和性能。
良好的导电性：有助于在溅射过程中更好地传递电流，使溅射过程更加稳定，提高镀膜的均匀性。
高致密度：致密度高可以减少靶材中的孔隙和缺陷，提高靶材的强度和耐磨性，延长靶材的使用寿命，同时也有利于提高镀膜的质量。
钆靶材制备方法
粉末冶金法：先将钆金属粉末通过还原法等制备出来，然后将钆粉末进行压制，在一定压力下使其成型，后进行烧结处理，得到钆靶材。
熔炼法：将高纯度的钆金属原料放入熔炉中，在高温下熔炼，然后通过浇铸等工艺制成所需形状的靶材。
钆靶材应用领域
光学领域：用于制备光学薄膜，能够提高光学器件的性能。
电子领域：用于制备电子薄膜，可用于半导体器件的制造。
磁性材料：用于制备磁性薄膜，可用于磁存储等应用。
