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钴镍铁(CoNiFe)合金靶材 ¥1000.00


高纯3N(99.95%)钴镍铁靶材,价格以当日报价为准,需联系销售报价!!!


元素 : CoNiFe     

纯度 : 3N     

形状 : 平面靶材     

规格 : 片     

包装 : 真空包装、纸箱、木箱     

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商品详情

市场参考价格:¥1000/Kg左右,价格仅供参考,如有需要,请咨询报价,以当日报价为准!

产品名称: 钴镍铁(CoNiFe)合金靶材

纯度:3N

规格:D50.8x3mm ,D75x100mm 或者规格生产


 钴铌锆合金靶材


钴镍铁合金靶材主要由钴(Co)、镍(Ni)、铁(Fe)三种金属元素组成,其成分比例可根据具体应用需求进行调整。通过特定的制备工艺加工而成的靶材。广泛应用于半导体、显示技术、光伏、磁存储等领域。


钴镍铁合金靶材特性:

具有良好的导电性、导热性、耐腐蚀性和磁性能。
通过调整成分比例,可以获得不同的物理和化学性质,满足不同领域的需求。
高纯度和高密度,杂质含量低,密度大。
沉积的膜层具有良好的软磁性能,可用于磁记录材料的制造。


 钴铌锆合金溅射靶材


钴镍铁合金靶材制备方法

熔融铸造法:将合金原料按一定配比放入熔炉中熔炼,然后将合金溶液倒入模具中浇铸成型,再经过机械加工制成靶材。常用的熔炼方法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子轰击熔炼等。此方法的优点是靶材杂质含量低、密度高,可制备大型靶材。
粉末冶金法:先将合金原料熔炼、浇注成铸锭后粉碎,再将粉末经等静压成形,后高温烧结制成靶材。其优点是靶材成分均匀。


钴镍铁合金靶材应用领域
电子领域:用于制造集成电路中的薄膜电阻、磁性存储器件的磁性薄膜等,以改善电子元件的性能和稳定性。
半导体行业:在半导体制造过程中,可用于沉积薄膜,这些薄膜在集成电路中起到导电、阻挡、扩散阻挡等作用,有助于提高芯片的性能和可靠性。
磁性材料:是制备磁性薄膜的重要材料,广泛应用于磁传感器、磁记录介质等,如硬盘的磁头和磁带。
薄膜太阳能电池:在薄膜太阳能电池的制造中,用于制备导电层,有助于提高电池的光电转换效率和稳定性。
表面涂层:可用于为工件表面提供耐磨、耐腐蚀和装饰性的涂层,增强其使用寿命和外观。