高纯3N5（99.95%）镍铁合金靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： NiFe
纯度 ： 3N5 4N
形状 ： 平面靶材
规格 ： 1Kg
包装 ： 三层真空包装或充氩气保护，符合IATA、DOT包装规范
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥300.00/片左右， 价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
纯度：3N5
形状：平面靶 旋转靶 异型定制
尺寸： D50.8x3.175mm，76.2x2mm 或者可按要求定制
镍铁合金靶材是一种由镍和铁组成的合金溅射靶材，通常用于磁控溅射镀膜技术中。这种材料在弱磁场中具有高磁导率和低矫顽力，使其在许多应用中表现出优异的性能。镍铁合金靶材广泛应用于电子、半导体和磁性材料等领域。常见成分可分为 35%～40% Ni-Fe 合金、45%～50% Ni-Fe 合金、50%～65% Ni-Fe 合金和 70%～81% Ni-Fe 合金四大类。
镍铁合金靶材性能特点
高磁导率：在较弱磁场下有较高的磁导率，这一特性使其在磁控溅射中具有独特的优势，所制备的镍铁薄膜具有优异的软磁磁性能，可广泛应用于磁记录、电磁屏蔽等对磁性能有要求的领域。
良好的物理性能：具备一定的硬度、强度，以及良好的导电性、导热性，有助于在溅射过程中实现均匀的电流分布和热量散发，从而提高薄膜的质量和均匀性，同时也使其能够承受一定的机械应力和热应力，保证了靶材在使用过程中的稳定性。
结构稳定性：镍含量在 30% 以上的镍铁，在室温时都为单相的面心立方 (γ) 结构，这种结构有助于提高靶材的致密性和稳定性，从而更好地满足溅射镀膜过程中的要求 。但在 30% Ni 附近的单相结构很不稳定，因此实用的镍铁软磁合金，含镍量一般都在 36% 以上。
耐腐蚀性：合金中的镍元素赋予了其一定的耐腐蚀性，使其能够在一些较为恶劣的化学环境或气氛中保持稳定，不易被腐蚀或氧化，延长了靶材的使用寿命，同时也保证了所制备薄膜的质量和性能不受环境因素的影响。
镍铁合金靶材的制备方法
原料准备：选择高纯度的镍和铁作为原料，确保总含量大于99.99%。
熔炼：将原料镍和铁按照预定比例放入真空感应炉中，在高温下进行熔炼，得到镍铁合金熔液。
浇铸：将熔液浇铸到模具中，得到铸锭。
均质化处理：对铸锭进行均质化处理，以消除成分偏析和铸造应力。
热轧和冷轧：对均质化处理后的材料进行热轧和冷轧，以细化晶粒，提高材料的强度和硬度。
退火：对冷轧后的材料进行退火处理，以消除加工硬化和内应力，改善材料的塑性和韧性。
机加工：将退火后的材料进行机械加工，制成所需尺寸和形状的靶材。
镍铁合金靶材应用
电子领域：用于制造集成电路中的薄膜电阻、磁性存储器件的磁性薄膜等，以改善电子元件的性能和稳定性。
半导体行业：在半导体制造过程中，可用于沉积薄膜，起到导电、阻挡、扩散阻挡等作用，有助于提高芯片的性能和可靠性。
磁性材料：制备磁性薄膜，应用于磁传感器、磁记录介质等，例如硬盘的磁头和磁带。
薄膜太阳能电池：用于制备太阳能电池的导电层，有助于提高电池的光电转换效率和稳定性。
平板显示器：用于制造平板显示器中的导电层和电极等部件。
